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关于非正弦励磁交流电峰值——与试件磁化关系的讨论
| 题名： | 关于非正弦励磁交流电峰值——与试件磁化关系的讨论 |
| 正文语种： | 中文 |
| 作者： | 林锡忠 |
| 作者单位： | 成都华林检测技术研究所,成都,610051 |
| 关键词： | 非正弦 磁场 磁化 峰值 励磁交流电 磁粉探伤 |
| 摘要： | 在《关干磁粉探伤中的“有效值观点”与“峰值观点”的讨论》中，笔者己阐述了磁畴的基本取向时间是10-8秒；并分析了用工频电流，即用50Hz的正弦交流作为励磁电流时磁畴的取向状况，得出了其磁化效果主要取决于励磁电流的峰值。那么，对于更一般的倩况，即非正弦交流电励磁时，其磁化效果是否仍取决于励磁电流的峰值呢？本文论述了磁粉探伤中,用可控硅产生非正弦交流电励磁时,磁化的效果仍取决于励磁电流的峰值. |
| 会议日期： | 200611 |
| 会议举办地点： | 重庆 |
| 会议名称： | 2006年西南地区第九届NDT学术年会暨2006年全国射线检测新技术研讨会 |
| 出版日期： | 2006-10-31 |
| 母体文献： | 2006年西南地区第九届NDT学会年会暨2006年全国射线检测新技术研讨会论文集 |
| 分类号： | TM311.4 TM131.4 |
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