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氧化石墨烯铬离子印迹材料的制备及其除Cr(Ⅲ)性能研究
| 题名： | 氧化石墨烯铬离子印迹材料的制备及其除Cr(Ⅲ)性能研究 |
| 正文语种： | 中文 |
| 作者： | 李建政 李怀 |
| 作者单位： | 哈尔滨工业大学城市水资源与水环境国家重点实验室,黑龙江哈尔滨150090 |
| 关键词： | 印迹材料 氧化石墨烯 磁性材料 Cr(Ⅲ)去除 |
| 摘要： | 针对制革废水二级处理出水的Cr(Ⅲ)去除,采用表面离子印迹技术制备了磁性氧化石墨烯表面Cr(Ⅲ)离子印迹材料Fe3O4@SiO2-GO ⅡP,探讨了pH和废水中共存金属离子对其Cr(Ⅲ)吸附性能的影响,并就其去除实际制革废水中Cr(Ⅲ)的性能进行了测试和评价.结果表明：制备的Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP,其表面形成的Cr(Ⅲ)印迹空穴,对废水中的Cr(Ⅲ)具有较高的选择吸附性能；pH对其Cr(Ⅲ)吸附性能具有显著影响,适宜的pH为6 1左右；对于Cr(Ⅲ)浓度为2.65 mg/L的制革废水二级处理出水,Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP投加剂量为3～4 g/L时,出水Cr(Ⅲ)浓度可达到GB30486-2013要求的最为严格的标准；对吸附饱和的Fe3O4@SiO2-GO-ⅡP,可采用0.1 mol/L的HC1溶液进行洗涤和再生. |
| 会议日期： | 20161201 |
| 会议举办地点： | 厦门 |
| 会议名称： | 第六届重金属污染防治及风险评价研讨会 |
| 出版日期： | 2016-12-01 |
| 分类号： | O63 TQ3 |
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