专利名称: |
一种可调节均匀给料装置 |
摘要: |
本发明公开了一种可调节均匀给料装置,包括进料口、与进料口连接的进料管、设于所述进料管正下方的减压锥、用于调节所述减压锥与进料管底端间距离的控制调节结构,还包括设于进料管底端且位于所述减压锥外围的出料管;所述进料管包含内进料管和设于所述内进料管外围且与所述内进料管同心设置的外进料管,所述控制调节结构通过调整所述减压锥与内进料管间的距离以实现给料量的均匀控制。本发明通过调节导杆调节减压锥与内进料管间隙,由此调节下料量,不仅可根据要求调整到适当位置,使下料均匀,且采用多级密封,保证物料不会泄露出来。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
湖南;43 |
申请人: |
湖南荣融智能科技有限公司 |
发明人: |
魏立荣;张晓飞 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-07-22T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910663393.7 |
公开号: |
CN110294254A |
代理机构: |
长沙中科启明知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
匡治兵 |
分类号: |
B65G11/20(2006.01);B;B65;B65G;B65G11 |
申请人地址: |
410200 湖南省长沙市望城区(县)普瑞西路金桥国际未来城8栋2320室 |
主权项: |
1.一种可调节均匀给料装置,其特征在于,包括进料口(1)、与进料口连接的进料管、设于所述进料管正下方的减压锥(8)、用于调节所述减压锥与进料管底端间距离的控制调节结构,还包括设于进料管底端且位于所述减压锥外围的出料管(10);所述进料管包含内进料管(3)和设于所述内进料管外围且与所述内进料管同心设置的外进料管(4),所述控制调节结构通过调整所述减压锥(8)与内进料管间的距离以实现给料量的均匀控制。 2.根据权利要求1所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述控制调节结构(6)包括至少一个与所述减压锥连接的成吊耳型的支撑架(6)和与所述支撑架连接的调节导杆(7),所述支撑架一端与减压锥(8)相连,另一端纵向插入外进料管(4)两侧并成角度横向延伸出外进料管,所述调节导杆(7)通过与支撑架所述另一端的延伸部分带动减压锥(8)沿所述内进料管(3)内部空间上下移动。 3.根据权利要求1所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述减压锥(8)的底部直径间于内进料管(3)直径和外进料管(4)直径之间,锥尖向上;在减压锥(8)上升至与内进料管(3)完全接触时,下料停止,在减压锥(8)下降至锥顶与内进料管(3)出口相同高度时,下料量最大。 4.根据权利要求2所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述出料管(10)上设有一下法兰(12),所述调节导杆(7)通过插入所述下法兰上的通孔实现上下移动导向。 5.根据权利要求4所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述内进料管(3)直径与进料口(1)直径相等,且用上法兰(13)连接,内进料管(3)直径与法兰内径相等,所述外进料管(4)直径大于内进料管(3)直径,并且外进料管(4)上端与内进料管(3)焊接于同一上法兰上,外进料管下端焊接于所述下法兰。 6.根据权利要求4所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述外进料管内设有除尘管道(2),所述除尘管道(2)进口设置于外进料管(4)上法兰(13)顶部,且除尘管道(2)向下延伸至外进料管(4)两侧滑动槽最下方。 7.根据权利要求2所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述内进料管(3)出口处设有位于内进料管和外进料管之间的环形密封圈(11),所述环形密封圈设有供所述支撑架一端通过的移动孔位。 8.根据权利要求2所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,支撑架所述另一端的延伸部设置有可容纳调节导杆的向下开口,所述调节导杆顶端抵靠于所述所述支撑架另一端的延伸部。 9.根据权利要求2所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述减压锥底端设有与所述支撑架数量一致的至少一个容纳槽(14),用于连接所述支撑架一端;所述支撑架和容纳槽均优选设为两个,且设于锥面对称两侧。 10.根据权利要求6所述的一种可调节均匀给料装置,其特征在于,所述调节导杆(7)为丝杠结构,调节导杆底端与步进电机相连,所述除尘管道(2)进口与外置除尘器相连。 |
所属类别: |
发明专利 |