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原文传递一种均匀喷釉设备

专利名称：	一种均匀喷釉设备
摘要：	本实用新型公开了一种均匀喷釉设备。均匀喷釉设备，包括：吸收机构、喷釉机构以及支撑机构，吸收机构安装在喷釉机构一侧。本实用新型提供的均匀喷釉设备通过设置滤网以及滤布带可对喷射出来的多余釉体颗粒进行吸收，防止其飘到空气中，与现有的使用挡板对釉体阻挡的方式相比，对釉体颗粒的吸收效果更佳，有效减少釉体颗粒飘入空中的数量，进而减少被工作人员吸入体内的风险，保护工作人员的身体健康。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	四川;51
申请人：	四川锦兴玻璃陶瓷有限公司
发明人：	郭俊希;王晓峰;薛政雷;陈林;梁俊;肖秀清;曾品淑
专利状态：	有效
申请日期：	2023-06-06T00:00:00+0800
发布日期：	2023-11-07T00:00:00+0800
申请号：	CN202321423762.3
公开号：	CN219968336U
代理机构：	成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙)
代理人：	黄芷
分类号：	B28B11/04;B28B17/04;B;B28;B28B;B28B11;B28B17;B28B11/04;B28B17/04
申请人地址：	642150 四川省内江市隆昌市圣灯镇天螺村
主权项：	1.一种均匀喷釉设备，其特征在于，包括：吸收机构(100)、喷釉机构(200)以及支撑机构(300)，所述吸收机构(100)安装在喷釉机构(200)一侧，所述吸收机构(100)包括滤液盒(101)，所述滤液盒(101)一侧开口设置，开口处可拆卸安装滤网(102)，所述滤液盒(101)内壁设有转轴(103)以及滤布带(105)，所述滤布带(105)表面开设小孔，所述滤布带(105)两端各设置一个转轴(103)作为过滤组件，所述过滤组件平行设置若干组。 2.根据权利要求1所述的一种均匀喷釉设备，其特征在于，所述转轴(103)一端安装电机(104)，所述电机(104)设有齿轮，相邻所述转轴(103)端部也设有相同规格的齿轮，齿轮之间相互啮合。 3.根据权利要求1所述的一种均匀喷釉设备，其特征在于，相邻两个所述滤布带(105)之间设有滚轴，所述滚轴表面与滤布带(105)表面相切。 4.根据权利要求1所述的一种均匀喷釉设备，其特征在于，所述滤液盒(101)开口处的内壁还固定安装进气口(106)，所述滤液盒(101)上端设有顶盖(107)，所述顶盖(107)上设有排气管(108)。 5.根据权利要求1所述的一种均匀喷釉设备，其特征在于，所述喷釉机构(200)包括底座(201)，所述底座(201)上端设有若干立杆(202)，所述立杆(202)上安装支架(203)以及喷枪(204)，所述喷枪(204)一端设有输送管(205)，多个所述立杆(202)上的支架(203)位于不同高度处。 6.根据权利要求5所述的一种均匀喷釉设备，其特征在于，所述底座(201)上端还设有传输带(206)，所述支撑机构(300)放置在传输带(206)上。 7.根据权利要求6所述的一种均匀喷釉设备，其特征在于，所述支撑机构(300)包括支撑带(301)以及旋转座(302)，旋转座(302)安装在支撑带(301)上端。
所属类别：	实用新型