专利名称: | 质量输运装置 |
摘要: | 质量输运装置,属于半导体工艺设备的改进技术。本装置是由上盖、底座及带有许多微孔的隔板组成的一密封箱体,其上盖与隔板形成反应室,隔板与底座底部形成输运室。本实用新型结构简单,操作安全,很好地保证质量输运的质量,提高了器件的成品率。本装置可广泛应用于Ⅲ-Ⅴ族化合物发光器件,抛物镜,微透镜阵列的制造以及它们的单片集成的制造的工艺过程中。 |
专利类型: | 实用新型专利 |
申请人: | 清华大学 |
发明人: | 孙成城; 何淑芳; 江剑平 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 1993-01-14T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN93200348.6 |
公开号: | CN2151538 |
代理机构: | 清华大学专利事务所 |
代理人: | 廖元秋 |
分类号: | H01L21/00 |
申请人地址: | 100084北京市海淀区清华园 |
主权项: | 一种质量输运装置,其特征在于由上盖、底座和带有许多微孔 的隔板所组成,所说的上盖与底座构成一密封箱体,所说的隔 板放置在箱体之中,将该箱体分成上下二层空间,上层为反应 室,下层为输运室。 |
所属类别: | 实用新型 |