专利名称: | 地下水污染模拟槽 |
摘要: | 本发明提供了一种地下水污染模拟槽,该模拟槽至少包括槽体,槽体内填装 有模拟典型水文地质单元的含水层介质,隔水层介质和透镜体,模拟槽从槽头、 槽身至槽尾分布有地下水补给区、径流区和排泄区,水力控制装置从位于槽头的 地下水补给区供水,位于槽身的径流区包括有多孔隔板的布水、水-岩相互作用 段和污染修复装置,水从位于槽尾的排泄区排出;水力控制装置至少包括两个高 度可调节的水箱,两个水箱分别位于槽体两端,两个水箱间存在水位差,以提供 地下水动力场;槽体上方开有若干监测孔和污染物投放口,监测孔与监测系统联 接。该地下水污染模拟槽具有集“模拟—监测—修复”功能于一身的优点。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 湖北;42 |
申请人: | 中国地质大学(武汉) |
发明人: | 孙 强;马 腾;韩鸿印;祁志冲;沈仲智 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2009-05-19T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200910062166.5 |
公开号: | CN101556269 |
代理机构: | 武汉华旭知识产权事务所 |
代理人: | 刘 荣 |
分类号: | G01N33/18(2006.01)I |
申请人地址: | 430074湖北省武汉市洪山区鲁磨路388号 |
主权项: | 1、一种地下水污染模拟槽,至少包括槽体,槽体内填装有模拟典型水文地 质单元的含水层介质,隔水层介质和透镜体,其特征在于:模拟槽从槽头、槽身 至槽尾依次分布有地下水补给区、径流区和排泄区,水力控制装置从位于槽头的 地下水补给区供水,位于槽身的径流区包括有布水的多孔隔板、水-岩相互作用 段和污染修复装置,水从位于槽尾的排泄区排出;水力控制装置至少包括水源和 两个高度可调节的水箱,两个水箱分别为位于槽头外部的进水箱和位于槽尾外部 的出水箱,进水箱与出水箱间存在水位差,水源通过三通进水管同时与模拟槽的 地下水补给区和进水箱连通,模拟槽的排泄区则通过管道与出水箱连通;槽体上 方开有若干监测孔和污染物投放口,监测孔与监测系统联接,靠近槽尾的槽体中 嵌插有污染修复装置。 |
所属类别: | 发明专利 |