原文传递
用于分析样本的设备、装置和方法
| 专利名称： | 用于分析样本的设备、装置和方法 |
| 摘要： | 一种用于分析样本的设备(100)，该设备(100)包括：射束敏感 结构(101)，其适于使得射束敏感结构(101)的一部分的电特性被撞 击到该射束敏感结构(101)的所述部分上的射束(102)局部地改变； 样本容纳单元(103)，其适于容纳所述样本；其中所述射束敏感结构 (101)和所述样本容纳单元(103)被设置成使得所述射束敏感结构 (101)的所述部分的电特性的局部改变局部地改变所述样本容纳单元 (103)的相应部分中的样本的分析；其中所述射束敏感结构(101)包 括有机光电导体。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 发明人： | M·F·吉利斯;M·W·G·庞杰;M·T·约翰逊 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2007-11-08T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200780042716.6 |
| 公开号： | CN101558303 |
| 代理机构： | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人： | 刘 鹏;刘 红 |
| 分类号： | G01N33/53(2006.01)I |
| 申请人地址： | 荷兰艾恩德霍芬 |
| 主权项： | 1.一种用于分析样本的设备(100)，该设备(100)包括： 射束敏感结构(101)，其适于使得射束敏感结构(101)的一部分 的电特性被撞击到该射束敏感结构(101)的所述部分上的射束(102) 局部地改变； 样本容纳单元(103)，其适于容纳所述样本； 其中所述射束敏感结构(101)和所述样本容纳单元(103)被设置 成使得所述射束敏感结构(101)的所述部分的电特性的局部改变局部 地改变所述样本容纳单元(103)的相应部分中的样本的分析特性； 其中所述射束敏感结构(101)包括有机光电导体。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
