专利名称: |
反应容器及其制造方法、反应容器的制造装置和具备反应容器的自动分析装置 |
摘要: |
本发明提供即使对于将来被极微量化的反应液量,也能同时抑制气泡附着
和降低残留液、保持稳定的分析性能的反应单元、使用该反应单元的自动分析
装置、反应单元的亲水化处理方法。具备插入反应单元的内侧的第1电极和配
置于反应单元的底侧的第2电极,通过在第1电极和第2电极之间施加电压,
从而在第1电极和第2电极之间产生放电,由此仅使容易附着较大气泡的单元
底和单元底四角局部地亲水化。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
株式会社日立高新技术 |
发明人: |
远藤正史;石泽宏明;三岛弘之 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2009-04-14T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN200910134359.7 |
公开号: |
CN101561447 |
代理机构: |
北京银龙知识产权代理有限公司 |
代理人: |
张敬强 |
分类号: |
G01N35/02(2006.01)I |
申请人地址: |
日本东京都 |
主权项: |
1.一种反应单元的制造方法,是自动分析装置用的反应单元的制造方法,
其特征在于,包括:
向上述反应单元的内侧插入第1电极的步骤,
在于上述反应单元的底侧配置的第2电极和与该第2电极构成为一体构造
的与上述反应单元外侧相对的第3电极之间施加电压,而在第1电极与第2
和第3电极之间产生等离子放电的步骤。 |
所属类别: |
发明专利 |