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原文传递 反应容器及其制造方法、反应容器的制造装置和具备反应容器的自动分析装置
专利名称: 反应容器及其制造方法、反应容器的制造装置和具备反应容器的自动分析装置
摘要: 本发明提供即使对于将来被极微量化的反应液量,也能同时抑制气泡附着 和降低残留液、保持稳定的分析性能的反应单元、使用该反应单元的自动分析 装置、反应单元的亲水化处理方法。具备插入反应单元的内侧的第1电极和配 置于反应单元的底侧的第2电极,通过在第1电极和第2电极之间施加电压, 从而在第1电极和第2电极之间产生放电,由此仅使容易附着较大气泡的单元 底和单元底四角局部地亲水化。
专利类型: 发明专利
申请人: 株式会社日立高新技术
发明人: 远藤正史;石泽宏明;三岛弘之
专利状态: 有效
申请日期: 2009-04-14T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN200910134359.7
公开号: CN101561447
代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
代理人: 张敬强
分类号: G01N35/02(2006.01)I
申请人地址: 日本东京都
主权项: 1.一种反应单元的制造方法,是自动分析装置用的反应单元的制造方法, 其特征在于,包括: 向上述反应单元的内侧插入第1电极的步骤, 在于上述反应单元的底侧配置的第2电极和与该第2电极构成为一体构造 的与上述反应单元外侧相对的第3电极之间施加电压,而在第1电极与第2 和第3电极之间产生等离子放电的步骤。
所属类别: 发明专利
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