专利名称: | 金属盖构件的清洗方法及金属盖构件的清洗装置 |
摘要: | 提供一种金属盖构件的清洗方法,其是一种在将具有成形槽和与该成 形槽连通的陶瓷坯土供给孔的金属盖构件用于对含有黏合剂的陶瓷坯土 的成形之后,除去在所述金属盖构件上附着的所述陶瓷坯土的金属盖构件 的清洗方法,其特征在于,在从所述金属盖构件的坯土供给孔侧的面向供 给孔喷射高压流体之后,从所述金属盖构件的成形槽侧的面向成形槽喷射 高压流体,从而除去所述陶瓷坯土。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 日立金属株式会社 |
发明人: | 杉尾直树 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2007-12-26T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200780048066.6 |
公开号: | CN101568414 |
代理机构: | 中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人: | 朱 丹 |
分类号: | B28B3/26(2006.01)I |
申请人地址: | 日本东京 |
主权项: | 1.一种金属盖构件的清洗方法,其特征在于, 在将具有成形槽和与该成形槽连通的陶瓷坯土供给孔的金属盖构件 用于对含有黏合剂的陶瓷坯土的成形之后,除去在所述金属盖构件上附着 的所述陶瓷坯土, 从所述坯土供给孔侧向供给孔喷射高压流体之后,从所述成形槽侧向 成形槽喷射高压流体。 |
所属类别: | 发明专利 |