原文传递
在水处理过程中监测处理剂的残留物和控制处理剂的剂量的方法
| 专利名称： | 在水处理过程中监测处理剂的残留物和控制处理剂的剂量的方法 |
| 摘要： | 一种监测处理水中残留处理剂的方法，其中将添加至少两种不同剂量 的、用荧光示踪剂来标记或示踪的处理剂时水的荧光强度与处理剂的残留 浓度相互关联。在不同的处理剂剂量时的荧光响应用于自动连续地确定最 佳处理剂剂量，并且由此控制处理剂剂量。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 纳尔科公司 |
| 发明人： | 高彼·纳特·塞思麦迪海范;布赖恩·S·约翰逊 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2006-01-20T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200680002693.1 |
| 公开号： | CN101568822 |
| 代理机构： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 陶贻丰;郑 霞 |
| 分类号： | G01N21/64(2006.01)I |
| 申请人地址： | 美国伊利诺斯州 |
| 主权项： | 1.一种在使用处理剂处理的处理水中监测残留处理剂和确定最佳处 理剂剂量的方法，依次包括： i)向处理水添加第一剂量的、用荧光示踪剂来示踪或标记的处理 剂； ii)测量所述处理水的荧光强度； iii)向所述处理水添加第二剂量的、用荧光示踪剂来示踪或标记的 所述处理剂； iv)测量所述处理水的荧光强度；以及 v-a)将添加所述处理剂第一剂量和第二剂量的所述处理水的所测荧 光强度的变化与所述处理剂的残留浓度相互关联；或 v-b)将添加所述处理剂第一剂量和第二剂量的所述处理水的所测荧 光强度的变化与所测荧光强度的不成比例变化相互关联，其中所述处理水 的所测荧光强度的不成比例变化用于确定与最佳处理剂剂量相对应的设 置点。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
