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渗碳装置和渗碳方法
| 专利名称： | 渗碳装置和渗碳方法 |
| 摘要： | 对物体进行真空渗碳处理的渗碳装置，其具备：装纳上述物体的渗 碳炉、向上述渗碳炉供给渗碳气体的气体供给装置、使用供给了上述渗 碳气体的上述渗碳炉内部的炉内气体进行发光的发光装置、接受来自上 述发光装置的光的受光装置、和根据上述受光装置的受光结果而求得上 述炉内气体的组成的处理装置。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 株式会社IHI |
| 发明人： | 中井宏;中林贵 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2008-02-14T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200880005440.9 |
| 公开号： | CN101617063 |
| 代理机构： | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人： | 蔡晓菡;李平英 |
| 分类号： | C23C8/20(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 1.渗碳装置，其是对物体进行真空渗碳处理的渗碳装置，其中具备： 装纳上述物体的渗碳炉、 向上述渗碳炉供给渗碳气体的气体供给装置、 使用供给了上述渗碳气体的上述渗碳炉内部的炉内气体进行发光 的发光装置、 接受来自上述发光装置的光的受光装置、和 根据上述受光装置的受光结果而求得上述炉内气体的组成的处理 装置。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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