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应力状态下纳米材料力电性能与显微结构测量装置
| 专利名称： | 应力状态下纳米材料力电性能与显微结构测量装置 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种应力状态下测量纳米材料力电性能与结构的装置。 本实用新型在一个表面镀绝缘漆的金属绝缘环上放置两个双金属片，所述的 两个双金属片平行或呈V字形放置在金属绝缘环的同一平面上，每个双金属 片的一端固定在金属绝缘环上面，另一端悬空在金属绝缘环内，两个双金属 片的距离控制在0.002-1mm。本实用新型提供了一种针对目前半导体及信息工 业占统治地位的自上而下技术(Top-Down)的有效而简单的应力状态下单体 纳米材料原位实时动态的力学-电学-显微结构相关性测量的装置。 |
| 专利类型： | 实用新型专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 北京工业大学 |
| 发明人： | 韩晓东;刘 攀;张跃飞;岳永海;张 泽 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2008-12-19T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200820124520.3 |
| 公开号： | CN201340380 |
| 代理机构： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 刘 萍 |
| 分类号： | G01N13/10(2006.01)I |
| 申请人地址： | 100124北京市朝阳区平乐园100号 |
| 主权项： | 1.应力状态下纳米材料力电性能与显微结构测量装置，其特征在于： 在一个表面镀绝缘漆的金属绝缘环上放置两个双金属片，所述的两个双 金属片平行或呈V字形放置在金属绝缘环的同一平面上，每个双金属片的一 端固定在金属绝缘环上面，另一端悬空在金属绝缘环内，两个双金属片的距 离控制在0.002-1mm。 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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