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长余辉蓄光砖
| 专利名称： | 长余辉蓄光砖 |
| 摘要： | 本实用新型长余辉蓄光砖，为解决现有技术中耐磨能力差，制作工艺复杂等问题。包括砖本体，在所述的砖本体上置有一个由耐磨的透光材料制成的透光层，在所述的透光层与砖本体之间密封有由长余辉发光材料制成的发光层。采用上述结构不但具有制作方法简单，制作成本相对低廉和实用美观的优点，而且同时解决了作为地砖或墙砖必须解决的耐磨性、高强度和防止长余辉材料水解失效问题。 |
| 专利类型： | 实用新型专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京(11) |
| 申请人： | 刘笑飞;李玉萍 |
| 发明人： | 刘笑飞;李玉萍 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2004-06-17T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200420066105.9 |
| 公开号： | CN2729207 |
| 代理机构： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 |
| 代理人： | 张岱 |
| 分类号： | E04F13/08 |
| 申请人地址： | 100011 北京市东城区安外东河沿1楼2门701号 |
| 主权项： | 1、一种长余辉蓄光砖，包括砖本体，其特征在于：在所述的砖体上置 有一个由耐磨的透光材料制成的透光层，在所述的透光层与砖本体之间密 封有由长余辉发光材料制成的发光层。 |
| 学科领域： | AFAF01 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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