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流体在纳米或微米结构表面上流动阻力的控制方法和装置
| 专利名称： | 流体在纳米或微米结构表面上流动阻力的控制方法和装置 |
| 摘要： | 披露了一种方法和装置，其中位于纳米结构或微米结构表面上的液滴的流动阻力受到控制。封闭单元特征以这样的方式加以应用，以致当所述表面的一个或多个单元内的至少第一流体的压力降低至或低于要求水平时，引起位于该表面上的液滴至少部分渗入表面。在另一示例性实施例中，在一个或多个单元内的压力增加至或高于要求的水平时，从而液滴至少部分回复至其原始的、不渗入的位置。在又另一实施例中，封闭单元结构特征构型用于即使当位于表面上的流体压力较高时，得以阻止纳米结构或微米结构的表面的渗透。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | 朗迅科技公司 |
| 发明人： | 马克·S·霍兹;保罗·R·科洛德纳;季莫费·N·克劳潘基纳;阿伦·M·莱昂斯;玛丽·L·曼迪奇;约瑟夫·A·泰勒 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2004-09-28T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200410012073.9 |
| 公开号： | CN1603226 |
| 代理机构： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
| 代理人： | 王彦斌 |
| 分类号： | B82B1/00 |
| 申请人地址： | 美国新泽西州 |
| 主权项： | 1.一种装置，这种装置包括： 基底，具有至少一个第一表面；和 多个单元，按预定的特征构型位于所述至少一个第一表面上， 用于改变位于所述多个单元内至少一个第一流体的压力的机构， 以便使一所选液体改变所述特征构型的渗透程度。 |
| 学科领域： | DEDE00 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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