专利名称: | 悬浮输送装置及具有悬浮输送装置的处理系统 |
摘要: | 一种悬浮输送装置,用于从外部装置拉出对象物、并通过流体使所述对象物悬浮并进行输送的用途,所述悬浮输送装置具有:具有第一区域和第二区域的基台;排列在所述第一区域的第一输送装置及排列在所述第二区域的第二输送装置,该第一输送装置和该第二输送装置分别用于与所述对象物接触地将所述对象物从所述第一区域输送到所述第二区域;配置在所述基台上的第一悬浮装置,其具有喷出所述流体的喷出孔,以便对所述对象物施加浮力;以及第二悬浮装置,其沿着所述第一输送装置配置在所述基台上,并具有喷出所述流体的喷出孔,以便对所述对象物施加浮力,该第二悬浮装置能够在第一高度和第二高度之间控制所述对象物在所述第一输送装置上的悬浮高度,所述第一高度是防止所述第二输送装置与所述对象物可驱动地接触的高度,所述第二高度是允许所述输送装置与所述对象物可驱动地接触的高度。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 株式会社IHI |
发明人: | 平田贤辅 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2008-07-03T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200880100155.5 |
公开号: | CN101815661A |
代理机构: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人: | 许静 |
分类号: | B65G51/03(2006.01)I |
申请人地址: | 日本东京都 |
主权项: | 一种悬浮输送装置,用于从外部装置拉出对象物、并通过流体使所述对象物悬浮并进行输送的用途,所述悬浮输送装置具有:具有第一区域和第二区域的基台;排列在所述第一区域的第一输送装置及排列在所述第二区域的第二输送装置,该第一输送装置和该第二输送装置分别用于与所述对象物接触地将所述对象物从所述第一区域输送到所述第二区域;配置在所述基台上的第一悬浮装置,其具有喷出所述流体的喷出孔,以便对所述对象物施加浮力;以及第二悬浮装置,其沿着所述第一输送装置配置在所述基台上,并具有喷出所述流体的喷出孔,以便对所述对象物施加浮力,该第二悬浮装置能够在第一高度和第二高度之间控制所述对象物在所述第一输送装置上的悬浮高度,所述第一高度是防止所述第二输送装置与所述对象物可驱动地接触的高度,所述第二高度是允许所述输送装置与所述对象物可驱动地接触的高度。 |
所属类别: | 发明专利 |