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用于分析流体、膏状或固体物质的特性参数的光谱仪测量头
| 专利名称： | 用于分析流体、膏状或固体物质的特性参数的光谱仪测量头 |
| 摘要： | 本发明涉及一个用于分析流体、膏状或固体物质的特性参数的、用于光谱仪系统的光谱仪测量头(12)。其特征尤其在于拥有一个长时间稳定的、少维护的且简单构成的光谱仪测量头。为此在外壳(6)里面设置可旋转支承的镜子(1)和至少一个光辐射源(2)或一个输出耦合光辐射的装置使得：光辐射通过可旋转支承的镜子的偏转，或者入射到外壳里面的基准体(3)上或者通过外壳的窗口(7)入射到要被分析的物质(14)上。为此使镜子(1)机械地耦联在驱动装置(4)或耦联在外壳中也作为弯曲振动器的弯曲梁上。此外在外壳里面设置至少一个光导(5)使得：至少一部分由基准体或要被分析的物质表面反射或透射的光辐射耦合输入到光导里面。在光谱仪测量头中有利地将光辐射源与发光机构结合成整体，由此能够低损耗地照射物质或基准体。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 光学测量系统协会森创尼克有限公司;布勒股份公司 |
| 发明人： | U·基尔申奈尔;M·劳 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2008-11-28T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200880118506.5 |
| 公开号： | CN101981435A |
| 代理机构： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 |
| 代理人： | 王勇 |
| 分类号： | G01N21/47(2006.01)I |
| 申请人地址： | 德国德累斯顿 |
| 主权项： | 一种用于分析流体、膏状或固体物质的特性参数的、用于光谱仪系统的光谱仪测量头，其特征在于，在外壳(6)中设置可旋转支承的镜子(1)和至少一个光辐射源(2)或一个输出耦合光辐射的装置使得：光辐射通过可旋转支承的镜子(1)的偏转，或者入射到外壳(6)中的基准体(3)上或者通过外壳(6)的窗口(7)入射到所述物质上，为了偏转，该可旋转支承的镜子(1)机械地耦联在驱动装置(4)或外壳(6)里面的弯曲梁(11)上，在外壳(6)中设置至少一个光导(5)使得：至少一部分由基准体(3)或物质表面反射或者透射的光辐射耦合输入到光导(5)里面。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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