详情

原文传递偏光薄膜的检查方法

专利名称：	偏光薄膜的检查方法
摘要：	使用缺陷检查装置对带状的偏光薄膜进行缺陷的检出(S2)，基于缺陷的检出结果制作出表示缺陷的位置的缺陷位置数据并保存到存储介质中(S3)，将带状的偏光薄膜卷绕到滚筒上(S5)，从滚筒拉出带状的偏光薄膜(S6)，对带状的偏光薄膜层叠其它薄膜(S7)，在层叠了其它薄膜后，读入保存在存储介质中的缺陷位置数据，且基于读入的缺陷位置数据来确定偏光薄膜的缺陷位置(S8)，基于已确定的缺陷位置，在所述其它薄膜上的缺陷的附近位置上形成记号(S9)。由此，能够在偏光薄膜上被缺陷检查装置检出的缺陷的附近位置上形成记号，而不会出缺陷检查装置检出的缺陷中只包含允许缺陷的部分不能作为产品使用的情况。
专利类型：	发明专利
申请人：	住友化学株式会社
发明人：	篠塚淳彦;笠井利行;山根尚德
专利状态：	有效
申请日期：	2009-03-26T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200980111518.X
公开号：	CN101981438A
代理机构：	北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人：	李伟;王轶
分类号：	G01N21/892(2006.01)I
申请人地址：	日本东京都
主权项：	一种偏光薄膜的检查方法，其特征在于，包括：用缺陷检查装置对带状的偏光薄膜进行缺陷的检出的工序；基于缺陷的检出结果制作出表示缺陷的位置的缺陷位置数据并保存到存储介质中的缺陷位置记录工序；在进行了所述缺陷的检出之后将带状的偏光薄膜卷绕到滚筒上的工序；从所述滚筒拉出带状的偏光薄膜的工序；对已被拉出的带状的偏光薄膜层叠其它薄膜的工序；在层叠了其它薄膜后，读入保存在存储介质中的缺陷位置数据，且基于读入的缺陷位置数据来确定偏光薄膜的缺陷位置，并基于已确定的缺陷位置而在所述其它薄膜上的缺陷的附近位置上形成记号的记号形成工序。
所属类别：	发明专利