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原文传递阻气性积层体及其制备方法

专利名称：	阻气性积层体及其制备方法
摘要：	本发明的阻气性积层体含有基材和阻气层。阻气层由含有化合物(L)的水解缩合物和聚合物(X)的中和物的组合物形成，所述聚合物(X)含有羧基或羧酸酐基。化合物(L)含有特定的化合物(A)和特定的化合物(B)，所述特定的化合物(A)含有键合了具水解性的特性基团的M1(Al、Pi或Zr)，所述特定的化合物(B)含有键合了具水解性的特性基团的Si。聚合物(X)的-COO-基团的至少一部分被二价以上的金属离子中和。化合物(B)的80％(摩尔)以上是由规定的式表示的化合物。[化合物(A)的M1的摩尔数]/[化合物(B)的Si的摩尔数]之比在0.1/99.9～30.0/70.0的范围。
专利类型：	发明专利
申请人：	可乐丽股份有限公司
发明人：	广濑航;尾下龙也
专利状态：	有效
申请日期：	2009-04-08T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200980113182.0
公开号：	CN101990495A
代理机构：	中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人：	吴娟;李连涛
分类号：	B32B27/30(2006.01)I
申请人地址：	日本冈山县
主权项：	阻气性积层体，该阻气性积层体含有基材和层合在上述基材上的至少一层具有阻气性的层，上述具有阻气性的层由含有化合物(L)的水解缩合物和聚合物(X)的中和物的组合物形成，其中所述化合物(L)是含有具水解性的特性基团的至少一种化合物，所述聚合物(X)含有选自羧基和羧酸酐基的至少一种官能基团，上述化合物(L)含有化合物(A)和化合物(B)，所述化合物(B)含有键合了具水解性的特性基团的Si，上述化合物(A)是以下的式(I)所示的至少一种化合物：M1X1mY1n?m????????(I)式(I)中，M1表示选自Al、Ti和Zr的任意一种，X1表示选自F、Cl、Br、I、OR1、R2COO、R3COCH2COR4和NO3的任意一种，Y1表示选自F、Cl、Br、I、OR5、R6COO、R7COCH2COR8、NO3和R9的任意一种，R1、R2、R5和R6各自独立地表示氢原子或烷基，R3、R4、R7、R8和R9各自独立地表示烷基，n与M1的原子价相等；m表示1～n的整数，上述化合物(B)含有以下的式(II)所示的至少一种化合物：Si(OR10)pR114?p?qX2q??????(II)式(II)中，R10表示烷基，R11表示烷基、芳烷基、芳基或链烯基，X2表示卤素原子，p和q各自独立地表示0～4的整数，1≤p+q≤4，上述聚合物(X)的上述官能基团中所含的?COO?基团的至少一部分被二价以上的金属离子中和，上述式(II)所示的化合物在上述化合物(B)中所占的比例为80％(摩尔)以上，上述组合物中，[来自上述化合物(A)的上述M1原子的摩尔数]/[来自上述化合物(B)的Si原子的摩尔数]之比在0.1/99.9～30/70.0的范围。
所属类别：	发明专利