专利名称: | 地下水回灌调控装置 |
摘要: | 本实用新型涉及一种地下水回灌调控装置。地下水回灌调控装置,它包括集水井、进水主管、进水支管、回灌井,进水主管的输入端与集水井相连通,进水主管的输出端分别与多个进水支管的输入端相连通,每一进水支管的输出端与对应的回灌井相连通;其特征在于:回灌井内埋有套筒管,套筒管埋入地下500mm以下部分开有出水孔;进水支管的输出端位于套筒管内的底部;进水主管上设有加压泵、主管阀门、主流量计;每一进水支管上设有支管阀门、分流量计。本实用新型具有结构简单、可调控的回灌流量的特点。 |
专利类型: | 实用新型专利 |
国家地区组织代码: | 湖北;42 |
申请人: | 中国一冶集团有限公司 |
发明人: | 董金志 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2010-04-30T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201020184446.1 |
公开号: | CN201738296U |
代理机构: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 |
代理人: | 唐万荣 |
分类号: | E02D3/00(2006.01)I |
申请人地址: | 430081 湖北省武汉市青山区工业大道3号 |
主权项: | 地下水回灌调控装置,它包括集水井(3)、进水主管(4)、进水支管(8)、回灌井(11),进水主管(4)的输入端与集水井(3)相连通,进水主管(4)的输出端分别与多个进水支管(8)的输入端相连通,每一进水支管(8)的输出端与对应的回灌井(11)相连通;其特征在于:回灌井(11)内埋有套筒管(13),套筒管(13)埋入地下500mm以下部分开有出水孔;进水支管(8)的输出端位于套筒管(13)内的底部;进水主管(4)上设有加压泵(5)、主管阀门(6)、主流量计(7);每一进水支管(8)上设有支管阀门(9)、分流量计(10)。 |
所属类别: | 实用新型 |