专利名称: | 基于介质阻挡放电的原子光谱分析用原子化器 |
摘要: | 本实用新型基于介质阻挡放电的原子光谱分析用原子化器涉及一种气体的原子化设备。其目的是为了提供一种结构简单、体积小、能耗低、工作温度低、原子传输效率高的基于介质阻挡放电的原子光谱分析用原子化器。本实用新型基于介质阻挡放电的原子光谱分析用原子化器包括陶瓷放电腔、电极和气体屏蔽装置,所述陶瓷放电腔由至少两片平行的陶瓷片构成,所述陶瓷放电腔的一端为样品气体入口,另一端为样品气体出口,所述电极分别固定在两个陶瓷片的外侧,所述气体屏蔽装置设置在陶瓷片的外围。 |
专利类型: | 实用新型专利 |
国家地区组织代码: | 北京;11 |
申请人: | 北京吉天仪器有限公司 |
发明人: | 黄军维;那星;刘霁欣 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2010-08-13T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201020291587.3 |
公开号: | CN201732063U |
代理机构: | 北京双收知识产权代理有限公司 11241 |
代理人: | 吴杰 |
分类号: | G01N21/67(2006.01)I |
申请人地址: | 100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号6座4层 |
主权项: | 一种基于介质阻挡放电的原子光谱分析用原子化器,其特征在于:包括陶瓷放电腔(1)、电极(2)和气体屏蔽装置,所述陶瓷放电腔(1)由至少两片平行的陶瓷片(3)构成,所述陶瓷放电腔(1)的一端为样品气体入口(4),另一端为样品气体出口(5),所述电极(2)分别固定在两个陶瓷片(3)的外侧,所述气体屏蔽装置设置在陶瓷片(3)的外围。 |
所属类别: | 实用新型 |