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原文传递 一种高超飞行器前缘冲击+微小直通道+气膜冷却结构
专利名称: 一种高超飞行器前缘冲击+微小直通道+气膜冷却结构
摘要: 本发明公开了一种高超飞行器前缘冲击+微小直通道+气膜冷却结构,其特征在于,包括冲击腔、冲击孔、微小直通道和气膜孔;冲击腔位于高速飞行器前缘内部,冲击腔靠近机体一侧中部轴线位置开设一排冲击孔,冲击孔两端连通冲击腔和供气腔,在冲击腔贴近高速飞行器楔形体表面的上下表面对应冲击孔的位置开设两个微小直通道,冲击孔和对应的微小直通道位于一个平面内,微小直通道外壁开有气膜孔。本发明可以用于冷却高热流密度的区域,从根本上解决了由于空间的限制导致局部高温区无法有效冷却的难题。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 北京;11
申请人: 北京航空航天大学
发明人: 孙纪宁;罗翔;张传杰;丁水汀;邓宏武
专利状态: 有效
申请日期: 2011-03-22T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201110069311.X
公开号: CN102152849A
代理机构: 北京永创新实专利事务所 11121
代理人: 赵文利
分类号: B64C1/38(2006.01)I
申请人地址: 100191 北京市海淀区学院路37号
主权项: 一种高超飞行器前缘冲击+微小直通道+气膜冷却结构,其特征在于,包括冲击腔、冲击孔、微小直通道和气膜孔;冲击腔位于高速飞行器前缘内部,冲击腔靠近机体一侧中部轴线位置开设一排冲击孔,冲击孔两端连通冲击腔和供气腔,在冲击腔贴近高速飞行器楔形体表面的上下表面对应冲击孔的位置开设两个微小直通道,冲击孔和对应的微小直通道位于一个平面内,微小直通道外壁开设气膜孔。
所属类别: 发明专利
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