详情

原文传递回收或贮藏方法

专利名称：	回收或贮藏方法
摘要：	一种回收一个或多个气体和/或液体贮藏构造中贮藏的气体和/或液体的方法，该方法包括以下步骤：找到所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的上部坚实边界的位置；钻出一进入井，该进入井向下至少延伸到与所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的上部坚实边界毗邻的位置；钻出所述进入井的一部分，该部分沿着或毗邻所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的上部坚实边界的至少一部分；从所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造上生成渗透通道，使来自所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的气体和/或液体能够被释放到所述进入井中；以及通过所述进入井回收所述被释放的气体和/或液体。
专利类型：	发明专利
申请人：	CFT科技(HK)有限公司
发明人：	E·方达斯;R·M·布瑞斯尼汉
专利状态：	有效
申请日期：	2010-02-05T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201080002338.0
公开号：	CN102203378A
代理机构：	北京金信立方知识产权代理有限公司 11225
代理人：	黄威
分类号：	E21B43/00(2006.01)I
申请人地址：	中国香港上环永乐街148号南和行大厦1905房间
主权项：	一种回收一个或多个气体和/或液体贮藏构造中贮藏的气体和/或液体的方法，该方法包括以下步骤：(a)找到所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的上部坚实边界的位置；(b)钻出一进入井，该进入井向下至少延伸到与所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的上部坚实边界毗邻的位置；(c)钻出所述进入井的一部分，该部分沿着或毗邻所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的上部坚实边界的至少一部分延伸；(d)从所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造上生成渗透通道，使来自所述一个或多个气体和/或液体贮藏构造的气体和/或液体能够被释放到所述进入井中；以及(e)通过所述进入井回收所述被释放的气体和/或液体。
所属类别：	发明专利