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改性共轭二烯系聚合物及其制造方法
| 专利名称： | 改性共轭二烯系聚合物及其制造方法 |
| 摘要： | 本发明涉及一种改性共轭二烯系聚合物，其在将共轭二烯化合物聚合所得到的共轭二烯系聚合物或将共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物共聚所得到的共轭二烯系聚合物上结合有改性基团，该改性基团基于分子中具有2个以上叔氨基和1个以上烷氧基甲硅烷基的低分子化合物；本发明还涉及制造上述改性共轭二烯系聚合物的方法，其特征在于，使用碱金属系引发剂和/或碱土金属系引发剂，在烃溶剂中使共轭二烯化合物聚合或者使共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物共聚，然后使该聚合物的活性末端与分子中具有2个以上叔氨基和1个以上烷氧基甲硅烷基的低分子化合物反应。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 旭化成化学株式会社 |
| 发明人： | 福冈亮子;山田春夫;石村德房 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2007-07-19T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201110191208.2 |
| 公开号： | CN102344512A |
| 分类号： | C08F36/04(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 一种改性共轭二烯系聚合物，其以如下通式(2)表示，特征在于，该改性共轭二烯系聚合物在将共轭二烯化合物聚合所得到的共轭二烯系聚合物或将共轭二烯化合物与芳香族乙烯基化合物共聚所得到的共轭二烯系聚合物上结合有改性基团，该改性基团基于分子中具有2个以上叔氨基和1个以上烷氧基甲硅烷基的低分子化合物，通式(2)中，P是共轭二烯系聚合物；R1是丙基；R3、R4、R10是碳原子数为1～20的烷基，并且R3、R4、R10相同或不同；R8、R9是亚乙基；f是1～2的整数，d是1～2的整数，e是0～1的整数，并且d+e+f＝3。FDA0000074662100000011.tif |
| 所属类别： | 发明专利 |
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