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原文传递一种低辐射镀膜玻璃

专利名称：	一种低辐射镀膜玻璃
摘要：	一种低辐射镀膜玻璃，涉及玻璃深加工领域，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：所述Ag膜层沉积在MOx:Sb膜层之上，所述MOx:Sb膜层中的M为Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合，当M为Zn时x取值在0＜x≤1；当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0＜x≤2；当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0＜x≤3。优点是：在MOx:Sb膜层之上紧接着沉积Ag膜层，这样可以使Ag膜层更趋向于二维形态生长，Sb起到类似于表面活性剂的作用。这里的表面活性剂是动力学上有利于薄膜逐层生长的元素，利用它可以减少薄膜的表面粗糙度，使膜层的生长更加均匀。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	福建;35
申请人：	福耀玻璃工业集团股份有限公司;福建省万达汽车玻璃工业有限公司
发明人：	尚贵才;李艺明
专利状态：	有效
申请日期：	2011-07-20T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201110203298.2
公开号：	CN102350834A
分类号：	B32B17/06(2006.01)I
申请人地址：	350301 福建省福州市福清市宏路镇福耀玻璃工业区II
主权项：	一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：所述Ag膜层沉积在MOx:Sb膜层之上，所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合，当M为Zn时x取值在0＜x≤1；当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0＜x≤2；当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0＜x≤3。
所属类别：	发明专利