专利名称: |
分析可通过氢化反应生成氢化物气体的痕量元素的方法 |
摘要: |
本发明涉及一种分析可通过氢化反应生成氢化物气体的痕量元素的方法。该方法使用改进的雾化室,具体步骤如下:(1)通过第一蠕动泵将一部分试样溶液泵送至雾化器中,在载气作用下于雾化室中形成雾状颗粒;(2)通过第二蠕动泵将另一部分试样溶液泵送至氢化物气体发生器中,同时通过第三蠕动泵将硼氢化钾溶液泵送至氢化物发生器中,在氢化物气体发生器中试样溶液与硼氢化钾溶液反应生成氢化物气体,生成的氢化物气体经过氢化反应物入口进入雾化室,然后该氢化物气体和雾状颗粒经过炬管接口一同进入炬管到等离子体火焰中激发。本发明方法可在测量常规含量的元素同时,准确而方便地测量痕量元素(例如砷、锡和锑)。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
天津;12 |
申请人: |
天津重型装备工程研究有限公司;中国第一重型机械股份公司 |
发明人: |
刘志民;王志成 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2011-11-16T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201110363076.7 |
公开号: |
CN102507536A |
代理机构: |
北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 |
代理人: |
王宇杨;王庆海 |
分类号: |
G01N21/72(2006.01)I |
申请人地址: |
300457 天津市塘沽区经济技术开发区宏达街21号B座11层 |
主权项: |
一种分析可通过氢化反应生成氢化物气体的痕量元素的方法,其特征在于:采用ICP光谱仪分析,该ICP光谱仪的进样系统所使用的雾化室为在常规雾化室上增加一个氢化反应物入口,该雾化室设置有雾化器插孔、氢化反应物入口、炬管接口和废液口,进样系统所使用的雾化器插入该雾化室的雾化器插孔中;该方法具体步骤如下:(1)通过第一蠕动泵将一部分试样溶液泵送至雾化器中,在载气作用下于雾化室中形成雾状颗粒;(2)通过第二蠕动泵将另一部分试样溶液泵送至氢化物气体发生器中,同时通过第三蠕动泵将硼氢化钾溶液泵送至氢化物发生器中,在氢化物 |
所属类别: |
发明专利 |