专利名称: | 一种校正质谱仪器和/或分子质量的方法 |
摘要: | 本发明公开了一种校正质谱仪器和/或分子质量的方法。该方法包括如下步骤:在基底上蒸镀金膜,在所述质谱仪器中用激光轰击所述金膜;或者在所述金膜上涂覆基质、待测样品或基质与待测样品的混合物后,在所述质谱仪器中用激光轰击所述涂覆待测样品的金膜、涂覆所述基质的金膜或涂覆所述基质与待测样品的混合物的金膜,将得到的离子经所述质谱仪器分析得到质谱谱图,根据金簇的理论质量即可对质谱仪器和/或待测样品的分子质量进行校正。本发明提供的方法可以分别进行正和负电荷校正;由于利用了没有同位素的金簇,可以记录到一系列质荷比相差197的离子峰,再利用金的准确的理论质量,可以准确标定质谱仪器信号和样品的分子质量,其偏差可以降到5ppm以下。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 北京;11 |
申请人: | 中国科学院化学研究所 |
发明人: | 陈义;李晋成;马力坡 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2011-12-01T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201110392477.5 |
公开号: | CN102507722A |
代理机构: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 |
代理人: | 关畅 |
分类号: | G01N27/64(2006.01)I |
申请人地址: | 100190 北京市海淀区中关村北一街2号 |
主权项: | 一种校正质谱仪器和/或分子质量的方法,包括如下步骤:在基底上蒸镀金膜,在所述质谱仪器中用激光轰击所述金膜;或者在所述金膜上涂覆基质、待测样品或基质与待测样品的混合物后,在所述质谱仪器中用激光轰击所述涂覆待测样品的金膜、涂覆所述基质的金膜或涂覆所述基质与待测样品的混合物的金膜,将得到的离子经所述质谱仪器分析得到质谱谱图,根据金簇的理论质量即可对质谱仪器和/或待测样品的分子质量进行校正。 |
所属类别: | 发明专利 |