专利名称: | 双层地下通道车行逃生结构 |
摘要: | 本发明公开了一种双层地下通道车行逃生结构,包括设置在同一盾构横断面中的上层车道、下层车道,以及工作井;所述上层车道与上层入口匝道连通,所述下层车道与下层入口匝道连通;所述上层车道与所述下层车道之间设置有逃生车道。本发明由于采用了上述结构设计,可以有效减少双层地下通道的车行逃生出口间距,使逃生出路和机会增加,有效地降低地下通道火灾或其他紧急事件的损失程度。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 上海市城市建设设计研究总院 |
发明人: | 刘伟杰;王宝辉;庄捷;虞质跃 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2011-10-28T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201110333971.4 |
公开号: | CN102505595A |
分类号: | E01C1/04(2006.01)I |
申请人地址: | 200125 上海市浦东新区东方路3447号 |
主权项: | 一种双层地下通道车行逃生结构,包括设置在同一盾构横断面中的上层车道、下层车道,以及工作井;所述上层车道与上层入口匝道连通,所述下层车道与下层入口匝道连通;其特征在于:所述上层车道与所述下层车道之间设置有逃生车道。 |
所属类别: | 发明专利 |