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原文传递微孔沉淀二氧化硅

专利名称：	微孔沉淀二氧化硅
摘要：	本文描述的是具有下列物化参数的微孔沉淀二氧化硅：CTAB表面积为50-300平方米/克，BET/CTAB比率≥1.3，孔隙大小分布的相对宽度γ≤3.5。所述沉淀二氧化硅还可以具有10-28的Sears值和≤0.16的Sears值/CTAB比率。本文还描述了含有所述微孔沉淀二氧化硅的可硫化和经过硫化的弹性体组合物，例如轮胎。
专利类型：	发明专利
申请人：	PPG工业俄亥俄公司
发明人：	T·A·奥克尔
专利状态：	有效
申请日期：	2010-05-04T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201080019746.7
公开号：	CN102414127A
代理机构：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人：	陈宙
分类号：	C01B33/18(2006.01)I
申请人地址：	美国俄亥俄州
主权项：	沉淀二氧化硅，其特征在于下列物化参数：CTAB表面积：50?300，BET/CTAB比率：≥1.3，孔隙大小分布的相对宽度γ：≤3.5。
所属类别：	发明专利