原文传递
一种改性二氧化硅胶体的制备方法
| 专利名称： | 一种改性二氧化硅胶体的制备方法 |
| 摘要： | 一种改性二氧化硅胶体的制备方法，依次包括以下步骤：1）调节铝改性硅溶胶溶液的pH至8.5~10.5，再加热至100~120℃并保温；2）搅拌过程中加入颗粒半径为10~15nm的二氧化硅胶体溶液；3）搅拌过程中加入活性硅酸和稳定剂，并控制溶液pH为8.5~10.5；4）冷却至室温；搅拌陈化；5）超滤浓缩至固含量为20~40wt%的浓缩液。本发明中公开了一种改性二氧化硅胶体的制备方法，采用本发明中制备方法制备的二氧化硅胶体中的二氧化硅颗粒为花瓣形的二氧化硅颗粒，非球形，这种颗粒的颗粒大，在应用于化学机械抛光时能够更有效的达到机械研磨的目的，提高研磨的效率，同时研磨材料的表面性能良好。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 发明人： | 梁晨亮;刘卫丽;宋志棠 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2014-12-31T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201410852430.6 |
| 公开号： | CN104556061A |
| 代理机构： | 上海光华专利事务所 31219 |
| 代理人： | 梁海莲 |
| 分类号： | C01B33/146(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
| 主权项： | 一种改性二氧化硅胶体的制备方法，依次包括以下步骤：1)调节铝改性硅溶胶溶液的pH至8.5～10.5，再加热至100～120℃并保温；2)搅拌过程中加入颗粒半径为10～15nm的二氧化硅胶体溶液；3)搅拌过程中加入活性硅酸和稳定剂，并控制溶液pH为8.5～10.5；4)冷却至室温；搅拌陈化；5)超滤浓缩至固含量为20～40wt％的浓缩液。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
