专利名称: |
一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法及其应用 |
摘要: |
本发明涉及一种以聚苯乙烯纳米颗粒作为内核,以氧化硅作为壳层,形成聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料抛光液的制备方法,属精密抛光材料制备工艺技术领域。本发明提供一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,包括如下步骤:(1)聚苯乙烯纳米颗粒的制备;(2)在步骤1制备得到的PS胶体中加入醇,搅拌得到均匀混合的液体,之后加入氨水,其用量为0.3~8wt%;最后加入TEOS;搅拌12~48小时即可得到复合磨料;(3)由复合磨料制备抛光液。本发明提供的聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法所制备的复合磨料具有光滑的表面,适合作为抛光液中的磨料。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
发明人: |
刘卫丽;张磊;秦飞;宋志棠 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2012-12-28T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201210586912.2 |
公开号: |
CN103897202A |
代理机构: |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人: |
许亦琳;余明伟 |
分类号: |
C08J3/03(2006.01)I |
申请人地址: |
201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
主权项: |
一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,包括如下步骤:(1)聚苯乙烯纳米颗粒的制备:将苯乙烯单体加入到水中,加入分散剂,搅拌形成均匀的分散液,通入氮气排空保护反应体系,之后加入阳离子引发剂,在60~80℃条件下反应1~24小时即可得到阳离子型聚苯乙烯胶体;(2)在步骤1制备得到的PS胶体中加入醇,搅拌得到均匀混合的液体,之后加入氨水,其用量为0.3~8wt%;最后加入TEOS;搅拌12~48小时即可得到复合磨料;(3)由复合磨料制备抛光液:将步骤2所得的复合磨料进行蒸发去除里面的醇,之后加入一定量的水,复合磨料与水的质量比为1~10%,加入氧化剂的量为0.5~5wt%,再加入缓蚀剂0.01~0.1wt%,最后加入螯合剂0.1~1wt%,搅拌即为聚苯乙烯/氧化硅纳米复合磨料抛光液。 |
所属类别: |
发明专利 |