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一种稳定的改性硅溶胶及其制备方法
| 专利名称： | 一种稳定的改性硅溶胶及其制备方法 |
| 摘要： | 本发明涉及化学工程领域，具体涉及一种较宽pH范围稳定的改性硅溶胶及其制备方法。本发明的稳定的改性硅溶胶制备方法如下：将待改性的碱性硅溶胶与阴离子交换树脂混合进行交换反应，获得除去阴离子的硅溶胶；加热使其沸腾，搅拌滴加金属盐溶液，获得待反应液；将待反应液于反应釜中反应0.5～24h，反应温度为100～150℃，得到反应产物；将反应产物与阳离子交换树脂混合进行交换反应，除去反应产物中的金属离子，获得改性的硅溶胶。本发明提供的改性硅溶胶，胶粒粒径10~60nm，二氧化硅含量为0.1~40%，pH值为3~11，常温放置一年以上，能够满足涂料、纺织、半导体等领域的应用需求。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 发明人： | 古双娜;王良咏;施鹰;刘卫丽;宋志棠 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2012-12-28T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201210587486.4 |
| 公开号： | CN103896290A |
| 代理机构： | 上海光华专利事务所 31219 |
| 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 分类号： | C01B33/146(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
| 主权项： | 一种稳定的改性硅溶胶的制备方法，步骤如下：1）将待改性的碱性硅溶胶与阴离子交换树脂混合进行交换反应，获得除去阴离子的硅溶胶；2）常压下对除去阴离子的硅溶胶进行加热使其沸腾，沸腾条件下一边搅拌一边向除去阴离子的硅溶胶中滴加金属盐溶液，获得待反应液；3）将前一步骤的待反应液于反应釜中反应0.5～24h，反应温度为100～150℃，得到反应产物；4）将反应产物与阳离子交换树脂混合进行交换反应，除去反应产物中的金属离子，获得改性的硅溶胶。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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