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一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法
| 专利名称： | 一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法 |
| 摘要： | 本发明涉及一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法，包括下列步骤：1)在硅溶胶中加入有机添加剂，搅拌溶解，而后加入三价铈盐或四价铈盐制得分散液；2)将分散液置于带有聚四氟内衬的高压釜中，密封后，加热反应；3)反应完毕后离心分离、提纯、烘干，最终制得氧化硅/氧化铈复合磨粒。采用本发明制得的氧化硅/氧化铈核壳复合磨料中没有均相成核的氧化铈粒子，该复合磨粒适用于超大规模集成电路和玻璃的化学机械抛光，其优点是有效提高抛光去除率和选择比，并可以降低表面的粗糙度，消除划痕等缺陷。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 发明人： | 张泽芳;刘卫丽;宋志棠 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2009-09-22T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200910196101.X |
| 公开号： | CN101671538 |
| 代理机构： | 上海光华专利事务所 |
| 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 分类号： | C09K3/14(2006.01)I |
| 申请人地址： | 200050上海市长宁区长宁路865号 |
| 主权项： | 1.一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法，包括下列步骤： 1)在硅溶胶中加入有机添加剂并溶解，而后加入三价铈盐或四价铈盐制得分散液； 2)将分散液置于带有聚四氟内衬的高压釜中，密封后，加热反应； 3)反应完毕后离心分离、提纯、烘干，最终制得氧化硅/氧化铈复合磨粒。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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