专利名称: |
传送机构 |
摘要: |
本发明提供一种传送机构,包括传送轨道,该传送轨道包括在传送时与被传送件接触的接触面,在传送轨道中设置有流体通道,该流体通道具有吸附口、流体入口和流体出口,其中,吸附口位于接触面上;流体经由流体入口进入流体通道,并经由流体出口流出;并且,流体出口与吸附口连通,用于在流体经由流体出口流出时,在吸附口处产生负压,以吸附被传送件。本发明提供的传送机构,其可以避免被传送件打滑,同时占用空间较小,且不易损坏被传送件。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人: |
冉庆领 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810479127.4 |
公开号: |
CN108861389A |
代理机构: |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人: |
彭瑞欣;张天舒 |
分类号: |
B65G35/00(2006.01)I;B;B65;B65G;B65G35;B65G35/00 |
申请人地址: |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
主权项: |
1.一种传送机构,包括传送轨道,所述传送轨道包括在传送时与被传送件接触的接触面,其特征在于,在所述传送轨道中设置有流体通道,所述流体通道具有吸附口、流体入口和流体出口,其中,所述吸附口位于所述接触面上;流体经由所述流体入口进入所述流体通道,并经由所述流体出口流出;并且,所述流体出口与所述吸附口连通,用于在流体经由所述流体出口流出时,在所述吸附口处产生负压,以吸附被传送件。 |
所属类别: |
发明专利 |