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一种用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg2+的方法
| 专利名称： | 一种用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg2+的方法 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 广西;45 |
| 申请人： | 广西师范大学 |
| 发明人： | 李重宁;梁爱惠;蒋治良 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201710702199.6 |
| 公开号： | CN107589085A |
| 代理机构： | 桂林市华杰专利商标事务所有限责任公司 45112 |
| 代理人： | 刘梅芳 |
| 分类号： | G01N21/31(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/31 |
| 申请人地址： | 541004 广西壮族自治区桂林市七星区育才路15号 |
| 主权项： | 一种用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg2+的方法，其特征是，包括如下步骤：(1)制备已知浓度的Hg2+标准溶液体系：于刻度试管中，依次加入10μL‑200μL 100nmol/L的Hg2+标准溶液、50μL‑120μL 66ng/mL汞适配体(序列为5’‑TTTCTTCTTTCTTCCCCCCTTGTTTGTTGTTT‑3’)和10μL‑20μL 100μg/mL二氧化硅，混匀，静置10分钟；然后在各试管中依次加入100μL‑200μL 0.5moL/L葡萄糖、100μL‑180μL 0.01moL/L HCl和100μL‑120μL 84μmoL/L HAuCl4，混匀，用二次蒸馏水定容至1.5mL，75℃水浴反应20分钟，取出试管，用冰水冷却终止反应，用二次蒸馏水定容至2.0mL；(2)制备空白对照溶液体系：用步骤(1)的方法不加Hg2+标准溶液制备空白对照溶液体系；(3)分别取按步骤(1)、(2)制备的Hg2+标准溶液体系及空白对照溶液体系倾入比色皿中，在分光光度计上，设定仪器参数狭缝为5nm，扫描获得体系的吸收光谱，测定580nm处的吸光度值为A，同时测定空白对照溶液体系的吸光度值为A0，计算ΔA＝A‑A0；(4)以ΔA对Hg2+的浓度关系做工作曲线；(5)依照步骤(1)的方法制备样品溶液，其中加入的Hg2+标准溶液替换为样品溶液，并按步骤(3)的方法测定样品溶液的吸光度值为A样品，计算ΔA样品＝A样品‑A0；(6)依据步骤(4)的工作曲线，计算出样品溶液Hg2+的含量。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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