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用于地下厂房顶棚结构边沿下方的导水结构
| 专利名称： | 用于地下厂房顶棚结构边沿下方的导水结构 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于地下厂房顶棚结构边沿下方的导水结构，用以解决渗水容易沿着顶棚下圈梁表面流至下方的隔墙外侧表面，并沿着隔墙表面贴壁流下，进而导致在隔墙内侧的装修表面出现水渍，严重影响其结构耐久性和厂内装饰美观的问题。所述导水结构包括顶棚、在顶棚边沿设置的下圈梁和设置于下圈梁下方的隔墙，还包括导水板，所述导水板包括第一板和第二板，所述第一板和第二板的边沿相接，并使所述导水板的截面呈“L”形；所述第一板设置于下圈梁和隔墙之间，所述第二板从隔墙的外侧穿出后向下倾斜延伸。本实用新型所述的导水结构，具有成本低、施工简便等优点。 |
| 专利类型： | 实用新型 |
| 国家地区组织代码： | 四川;51 |
| 申请人： | 中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 |
| 发明人： | 谭可奇;张顺利 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201721109825.2 |
| 公开号： | CN207130793U |
| 代理机构： | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 |
| 代理人： | 陈仁平 |
| 分类号： | E02D31/02(2006.01)I;E02D29/045(2006.01)I;E;E02;E02D;E02D31;E02D29;E02D31/02;E02D29/045 |
| 申请人地址： | 610072 四川省成都市青羊区浣花北路一号 |
| 主权项： | 用于地下厂房顶棚结构边沿下方的导水结构，包括顶棚(1)、在顶棚边沿设置的下圈梁(2)和设置于下圈梁(2)下方的隔墙(3)，在隔墙(3)和下圈梁(2)整体的外侧为岩壁(4)，并且在隔墙(3)和下圈梁(2)的整体与岩壁(4)之间留有通道(5)；其特征在于：还包括导水板(6)，所述导水板(6)包括第一板(61)和第二板(62)，所述第一板(61)和第二板(62)的边沿相接，并使所述导水板(6)的截面呈“L”形；所述第一板(61)设置于下圈梁(2)和隔墙(3)之间，所述第二板(62)从隔墙(3)的外侧穿出后向下倾斜延伸。 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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