专利名称: |
用于地下厂房顶棚结构边沿下方的导水结构 |
摘要: |
本实用新型公开了一种用于地下厂房顶棚结构边沿下方的导水结构,用以解决渗水容易沿着顶棚下圈梁表面流至下方的隔墙外侧表面,并沿着隔墙表面贴壁流下,进而导致在隔墙内侧的装修表面出现水渍,严重影响其结构耐久性和厂内装饰美观的问题。所述导水结构包括顶棚、在顶棚边沿设置的下圈梁和设置于下圈梁下方的隔墙,还包括导水板,所述导水板包括第一板和第二板,所述第一板和第二板的边沿相接,并使所述导水板的截面呈“L”形;所述第一板设置于下圈梁和隔墙之间,所述第二板从隔墙的外侧穿出后向下倾斜延伸。本实用新型所述的导水结构,具有成本低、施工简便等优点。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
四川;51 |
申请人: |
中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 |
发明人: |
谭可奇;张顺利 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201721109825.2 |
公开号: |
CN207130793U |
代理机构: |
成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 |
代理人: |
陈仁平 |
分类号: |
E02D31/02(2006.01)I;E02D29/045(2006.01)I;E;E02;E02D;E02D31;E02D29;E02D31/02;E02D29/045 |
申请人地址: |
610072 四川省成都市青羊区浣花北路一号 |
主权项: |
用于地下厂房顶棚结构边沿下方的导水结构,包括顶棚(1)、在顶棚边沿设置的下圈梁(2)和设置于下圈梁(2)下方的隔墙(3),在隔墙(3)和下圈梁(2)整体的外侧为岩壁(4),并且在隔墙(3)和下圈梁(2)的整体与岩壁(4)之间留有通道(5);其特征在于:还包括导水板(6),所述导水板(6)包括第一板(61)和第二板(62),所述第一板(61)和第二板(62)的边沿相接,并使所述导水板(6)的截面呈“L”形;所述第一板(61)设置于下圈梁(2)和隔墙(3)之间,所述第二板(62)从隔墙(3)的外侧穿出后向下倾斜延伸。 |
所属类别: |
实用新型 |