专利名称: |
光化学传感器 |
摘要: |
一种基于光学感测技术的用于测量测量介质(4)中的气态或溶解的分析物的光化学传感器(2),所述光化学传感器包括传感器壳体(6)和布置在传感器壳体中的光化学传感器元件(20、220)。光化学传感器元件(220)还包括基体(222)、感测层(224)和屏障层(230)。屏障层布置成使得其保护光化学传感器元件免受存在于测量介质中的干扰物质(234)。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
瑞士;CH |
申请人: |
梅特勒-托莱多有限公司 |
发明人: |
D·艾格纳;R·莱托;T·施奈德;M·温克勒;S·祖贝尔 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810447631.6 |
公开号: |
CN108896518A |
代理机构: |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人: |
周家新 |
分类号: |
G01N21/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/64 |
申请人地址: |
瑞士格赖芬塞 |
主权项: |
1.一种用于测量在测量介质(4、204)中的气态或溶解的分析物的光化学传感器(2),所述光化学传感器包括:传感器壳体(6);光化学传感器元件(20、220),所述光化学传感器元件布置在所述传感器壳体(6)中,光化学传感器元件在测量操作期间与所述测量介质(4、204)接触;其中,所述光化学传感器元件(20、220)还包括基体(222)以及布置在所述基体(222)上的感测层(224),其特征在于,所述光化学传感器元件包括屏障层(230),所述屏障层通过在允许气态或溶解的分析物(232)通过的同时防止干扰物(234)通过,来保护所述光化学传感器元件(20、220)免受所述测量介质(4、204)中的至少一种干扰物(234)。 |
所属类别: |
发明专利 |