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形成地下结构的施工方法以及以此施工方法完成的地下结构
| 专利名称： | 形成地下结构的施工方法以及以此施工方法完成的地下结构 |
| 摘要： | 本发明涉及一种形成地下结构的施工方法以及以此施工方法完成的地下结构。所述施工方法包括以下步骤：形成第一壁体结构，其包括多个第一壁，所述多个第一壁彼此并列相连且界定工作区域；在所述多个第一壁之间安置用以支撑所述多个第一壁的多个永久地梁，以形成第一地下子结构；开挖所述工作区域内的土壤到第一深度；及利用具导引功能的抗张部件将所述第一地下子结构推入地面中到大约所述第一深度。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 中国台湾;71 |
| 申请人： | 润弘精密工程事业股份有限公司 |
| 发明人： | 曹昌盛 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201710372599.5 |
| 公开号： | CN108930286A |
| 代理机构： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
| 代理人： | 林斯凯 |
| 分类号： | E02D29/045(2006.01)I;E;E02;E02D;E02D29;E02D29/045 |
| 申请人地址： | 中国台湾台北市104中山区八德路2段308号10楼 |
| 主权项： | 1.一种用于形成地下结构的施工方法，包括以下步骤：形成第一壁体结构，其包括多个第一壁，所述多个第一壁彼此相连且界定工作区域；在所述多个第一壁的内侧之间安置用以支撑所述多个第一壁的多个第一永久地梁，以形成第一地下子结构；开挖所述工作区域内的土壤到第一深度；及将所述第一地下子结构推入地面中到大约所述第一深度。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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