专利名称: |
多光谱显微成像系统 |
摘要: |
本发明公开了一种多光谱显微成像系统,包括:显微镜,用于将显微样本放大并成像到像面引出口;调制掩膜,调制掩膜位于显微镜的输出像面上,以约束后级成像视场范围,并加入随机掩膜调制;滤光片,滤光片位于视场光阑后,以对来自显微样本的光照信息进行窄带滤波,约束系统成像光谱范围;色散单元,用于将样本上各点光谱信息在空间上展开;像感器,用于记录经前级调制的样本图像,以通过色散和掩膜调制在一张或两张重建出多种标记图像。该系统可以仅采用一张或两张图像重建出多种标记图像,提高成像速度,提高图像分辨率,减少激光对光敏样本、生物样本的破坏,并且结构简单,成本低廉。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
清华大学 |
发明人: |
戴琼海;何继军;吴嘉敏 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201711460224.0 |
公开号: |
CN107941775A |
代理机构: |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人: |
张润 |
分类号: |
G01N21/64(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/64;G01N21/01 |
申请人地址: |
100084 北京市海淀区清华园 |
主权项: |
一种多光谱显微成像系统,其特征在于,包括:显微镜,用于将显微样本放大并成像到像面引出口;调制掩膜,所述调制掩膜位于所述显微镜的输出像面上,以约束后级成像视场范围,并加入随机掩膜调制;滤光片,所述滤光片位于视场光阑后,以对来自所述显微样本的光照信息进行窄带滤波,约束系统成像光谱范围;色散单元,用于将所述样本上各点光谱信息在空间上展开;以及像感器,用于记录经前级调制的样本图像,以通过色散和掩膜调制在一张或两张重建出多种标记图像。 |
所属类别: |
发明专利 |