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原文传递 应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法及评价系统
专利名称: 应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法及评价系统
摘要: 本发明公开一种应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法及评价系统,该应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法包括如下步骤:获取待检测铜在预设放大倍数下的SEM图片;选取SEM图片中若干个平均直径最大的晶粒,标记为异常晶粒,并计算所有异常晶粒的平均直径的平均值,根据SEM图片的放大比例及异常晶粒的直径求取在SEM图片中晶粒的实际最大直径值;将SEM图片中剔除异常晶粒后剩下的晶粒标记为正常晶粒,求取在SEM图片中正常晶粒的实际平均直径值,标记为晶粒的实际平均直径值;求取晶粒的实际最大直径值Dmax和晶粒的实际平均直径值Daver的比值,记为均匀性因子V,判断均匀性因子V是否大于预设值,上述应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法,提升了均匀性因子的计算精度。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 广东;44
申请人: 广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;宜兴硅谷电子科技有限公司
发明人: 彭超;廉泽阳;李艳国;陈蓓
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201810540586.9
公开号: CN108613998A
代理机构: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人: 刘培培
分类号: G01N23/2251(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23;G01N23/2251
申请人地址: 510663 广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城光谱中路33号
主权项: 1.一种应用于PCB板的铜晶粒均匀性的评价方法,其特征在于,包括如下步骤:获取待检测铜在预设放大倍数下的SEM图片,获得所述待检测铜的晶粒分布图;选取所述SEM图片中若干个平均直径最大的晶粒,标记为异常晶粒,并计算所有所述异常晶粒的平均直径的平均值,记为所述异常晶粒的直径根据所述SEM图片的放大比例K及所述异常晶粒的直径求取在所述SEM图片中所述异常晶粒的实际最大直径值,将所述异常晶粒的实际最大直径值标记为晶粒的实际最大直径值Dmax;将所述SEM图片中剔除所述异常晶粒后剩下的晶粒标记为正常晶粒,获取所述正常晶粒的平均直径值R,根据所述SEM图片的放大比例K及所述正常晶粒的平均直径值R,求取在所述SEM图片中所述正常晶粒的实际平均直径值,标记为晶粒的实际平均直径值Daver;求取所述晶粒的实际最大直径值Dmax和所述晶粒的实际平均直径值Daver的比值,记为均匀性因子V,判断所述均匀性因子V是否大于预设值;当所述均匀性因子V大于所述预设值时,将所述待检测铜标记为晶粒不均匀的铜;当所述均匀性因子V大于0且小于或等于所述预设值时,将所述待检测铜标记为晶粒均匀的铜。
所属类别: 发明专利
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