专利名称: |
应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法及评价系统 |
摘要: |
本发明公开一种应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法及评价系统,该应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法包括如下步骤:获取待检测铜在预设放大倍数下的SEM图片;选取SEM图片中若干个平均直径最大的晶粒,标记为异常晶粒,并计算所有异常晶粒的平均直径的平均值,根据SEM图片的放大比例及异常晶粒的直径求取在SEM图片中晶粒的实际最大直径值;将SEM图片中剔除异常晶粒后剩下的晶粒标记为正常晶粒,求取在SEM图片中正常晶粒的实际平均直径值,标记为晶粒的实际平均直径值;求取晶粒的实际最大直径值Dmax和晶粒的实际平均直径值Daver的比值,记为均匀性因子V,判断均匀性因子V是否大于预设值,上述应用于PCB板的晶粒均匀性的评价方法,提升了均匀性因子的计算精度。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;宜兴硅谷电子科技有限公司 |
发明人: |
彭超;廉泽阳;李艳国;陈蓓 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810540586.9 |
公开号: |
CN108613998A |
代理机构: |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人: |
刘培培 |
分类号: |
G01N23/2251(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23;G01N23/2251 |
申请人地址: |
510663 广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城光谱中路33号 |
主权项: |
1.一种应用于PCB板的铜晶粒均匀性的评价方法,其特征在于,包括如下步骤:获取待检测铜在预设放大倍数下的SEM图片,获得所述待检测铜的晶粒分布图;选取所述SEM图片中若干个平均直径最大的晶粒,标记为异常晶粒,并计算所有所述异常晶粒的平均直径的平均值,记为所述异常晶粒的直径根据所述SEM图片的放大比例K及所述异常晶粒的直径求取在所述SEM图片中所述异常晶粒的实际最大直径值,将所述异常晶粒的实际最大直径值标记为晶粒的实际最大直径值Dmax;将所述SEM图片中剔除所述异常晶粒后剩下的晶粒标记为正常晶粒,获取所述正常晶粒的平均直径值R,根据所述SEM图片的放大比例K及所述正常晶粒的平均直径值R,求取在所述SEM图片中所述正常晶粒的实际平均直径值,标记为晶粒的实际平均直径值Daver;求取所述晶粒的实际最大直径值Dmax和所述晶粒的实际平均直径值Daver的比值,记为均匀性因子V,判断所述均匀性因子V是否大于预设值;当所述均匀性因子V大于所述预设值时,将所述待检测铜标记为晶粒不均匀的铜;当所述均匀性因子V大于0且小于或等于所述预设值时,将所述待检测铜标记为晶粒均匀的铜。 |
所属类别: |
发明专利 |