专利名称: |
一种激光熔覆层与基体结合强度的测试方法 |
摘要: |
本公开提出一种激光熔覆层与基体结合强度的测试方法,包括:制作圆形试样,试样包括基体及基体上的激光熔覆层;在基体上形成一第一孔,第一孔为圆孔,与圆形试样同轴,圆孔深度等于基体厚度;在基体上形成多个第二孔,多个第二孔关于第一孔对称,且各第二孔与第一孔的中心距均为△;通过管路将泵连接到圆孔,启动泵,开始加压,当压力加载到一定值时,压力发生震荡,激光熔覆层与基体开始分离,确定此时压力P1;当激光熔覆层与基体分离至多个第二孔处时,压力瞬时下降,确定此时压力P2;以及根据压力P1、压力P2、圆孔直径、圆形试样直径及中心距△计算激光熔覆层与基体结合强度。采用本方法可以定量地获得基体与结合强度的结合强度。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
中国科学院半导体研究所 |
发明人: |
赵树森;林学春;李达;张志研;王奕博;梁浩;刘燕楠;马文浩 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810774454.2 |
公开号: |
CN108931429A |
代理机构: |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人: |
李佳 |
分类号: |
G01N3/08(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N3;G01N3/08 |
申请人地址: |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |
主权项: |
1.一种激光熔覆层与基体结合强度的测试方法,包括:制作圆形试样,该试样包括基体及基体上的激光熔覆层;在所述基体上形成一第一孔,该第一孔为圆孔,与所述圆形试样同轴,圆孔深度等于基体厚度;在所述基体上形成多个第二孔,该多个第二孔关于所述第一孔对称,且各第二孔与所述第一孔的中心距均为△;通过管路将泵连接到所述圆孔,启动泵,开始加压,当压力加载到一定值时,压力发生震荡,激光熔覆层与基体开始分离,确定此时的压力P1;当激光熔覆层与基体分离至所述多个第二孔处时,压力瞬时下降,确定此时的压力P2;以及根据压力P1、压力P2、圆孔直径、圆形试样直径及中心距△计算激光熔覆层与基体结合强度。 |
所属类别: |
发明专利 |