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原文传递一种PVDF膜的检测系统

专利名称：	一种PVDF膜的检测系统
摘要：	本发明提供了一种PVDF膜检测系统，包括配置于PVDF膜产线上的光源组件，包括至少一个光源，用于照射待检测PVDF膜；相机组件，包括至少一个相机，用于拍摄待检测PVDF膜；打标组件，用于标识待检测PVDF膜上的缺陷部位；计米器组件，用于检测待检测PVDF膜的输送距离；以及计算机，所述计算机分别连接所述光源组件、相机组件、打标组件和计米器组件，用于基于所述计米器组件检测的PVDF膜的输送距离以及实际产线速度对相机进行触发拍摄待检测PVDF膜，还用于接收处理相机拍摄的图片并识别缺陷，以及控制所述打标组件在待检测PVDF膜上的缺陷部位喷码打标。本发明的检测系统，适用于PVDF膜的质量检测，提高生产效率，降低生产成本。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	浙江;33
申请人：	杭州利珀科技有限公司
发明人：	孙浩益;徐琼;朱兆杰
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201810744893.9
公开号：	CN108931530A
代理机构：	杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231
代理人：	王健
分类号：	G01N21/89(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/89
申请人地址：	311305 浙江省杭州市临安区青山湖街道大园路723号越秀星汇中心20层2001室
主权项：	1.一种PVDF膜检测系统，其特征在于，包括配置于PVDF膜产线上的：光源组件，包括至少一个光源，用于照射待检测PVDF膜；相机组件，包括至少一个相机，用于拍摄待检测PVDF膜；打标组件，用于标识待检测PVDF膜上的缺陷部位；计米器组件，用于检测待检测PVDF膜的输送距离；其中，所述光源为匀光线光源，沿膜宽度方向设于待检测PVDF膜下方，且出射光线垂直于待检测PVDF膜，所述相机设于待检测PVDF膜上方，相机镜头指向光源出射光线与待检测PVDF膜的交汇处，且镜头轴线与待检测PVDF膜所在平面的夹角为63～67°；以及计算机，所述计算机分别连接所述光源组件、相机组件、打标组件和计米器组件，用于基于所述计米器组件检测的PVDF膜的输送距离以及实际产线速度对相机进行触发拍摄待检测PVDF膜，还用于接收处理相机拍摄的图片并识别缺陷，以及控制所述打标组件在待检测PVDF膜上的缺陷部位喷码打标。
所属类别：	发明专利