原文传递
一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪
| 专利名称： | 一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪 |
| 摘要： | 本发明记载了一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪，包括入射狭缝、准直镜、光栅、成像反射镜以及CCD探测器；在CCD探测器与成像反射镜之间设置有伸缩式陷光挡板，且陷光挡板为低反射率挡板。由于采用了上述技术，本发明通过在现有光谱仪的CCD探测器面前增加一个陷光用的陷光挡板，该陷光挡板的位置可以根据激发峰的波长进行位置调节以确保该激发峰被挡住，而仅通过发射峰。此时，可以对发射峰进行重新曝光，以便增加曝光时间，由于激发峰被遮挡使得曝光时间可以加长，从而形成更高的饱和度，并增加光谱的测量质量，此时信号的信噪比远远高于有激发峰一同存在情况下的发射谱光谱信号，从而达到了准确测量低量子效率物质等目的。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 上海倍蓝光电科技有限公司 |
| 发明人： | 于立民 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810768101.1 |
| 公开号： | CN109030427A |
| 分类号： | G01N21/63(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/63;G01N21/64;G01N21/01 |
| 申请人地址： | 201517 上海市金山区吕巷镇溪南路86号31幢2107室 |
| 主权项： | 1.一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪，包括入射狭缝、准直镜、光栅、成像反射镜以及CCD探测器；标准光源自入射狭缝射入CCD光谱仪并依次经过准直镜、光栅、成像反射镜以及CCD探测器；其特征在于，所述CCD探测器与成像反射镜之间设置有伸缩式陷光挡板，所述陷光挡板为低反射率挡板。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
