专利名称: |
反弧压坡型二道坝 |
摘要: |
本实用新型公开了一种反弧压坡型二道坝,涉及水利水电工程领域,提供一种能够降低水面壅高的二道坝。该二道坝包括坝体,坝体包括上游坝面和坝顶面,二道坝还包括压坡,压坡位于坝体上游方并与坝体制成一体,压坡的顶面与坝顶面平齐,压坡的底面由下游端至上游端高程逐渐升高,压坡的底面与上游坝面平滑过渡;压坡的底面最好为弧形面。纵向旋滚水流受压坡的约束,压坡将水垫塘的纵向旋滚水流控制在一定高度范围内,可降低水垫塘内的水面壅高,减小二道坝后的跌水高度,减轻对下游河道的冲刷。压坡的底面为弧形面时,压坡的底面与水流旋滚方向基本一致,能够减轻水流对压坡的反作用力;同时有助于进一步增强水流的纵向旋滚效果,提高水垫塘的消能率。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
四川;51 |
申请人: |
中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 |
发明人: |
叶茂;李仁鸿;何光宇 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201820793058.X |
公开号: |
CN208251037U |
代理机构: |
成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 |
代理人: |
傅剑涛 |
分类号: |
E02B8/06(2006.01)I;E;E02;E02B;E02B8;E02B8/06 |
申请人地址: |
610072 四川省成都市青羊区浣花北路1号 |
主权项: |
1.反弧压坡型二道坝,包括坝体(1),坝体(1)包括上游坝面(11)和坝顶面(12),其特征在于:包括设置于坝体上部的压坡(2),压坡(2)位于坝体(1)上游方并与坝体(1)制成一体,压坡(2)的顶面与坝顶面(12)平齐,压坡(2)的底面由下游端至上游端高程逐渐升高,压坡(2)的底面与上游坝面(11)平滑过渡。 |
所属类别: |
实用新型 |