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原文传递 真空吸附装置
专利名称: 真空吸附装置
摘要: 本实用新型涉及一种真空吸附装置。该真空吸附装置,包括气路通道,真空吸附装置还包括层叠设置的第一基板及第二基板,第一基板远离第二基板的表面为第一表面,第二基板远离第一基板的表面为第二表面,气路通道位于第一表面与第二表面之间,第一基板与第二基板中的至少一者为透明基板,以使得气路通道可见。在上述真空吸附装置中,由于气路通道可见,从而便于检查气路通道是否堵塞。
专利类型: 实用新型
国家地区组织代码: 广东;44
申请人: 深圳市杰普特光电股份有限公司
发明人: 许根夫;成学平
专利状态: 有效
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201820112770.9
公开号: CN207957502U
代理机构: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人: 石佩
分类号: B66C1/02(2006.01)I;F16B47/00(2006.01)I;B;F;B66;F16;B66C;F16B;B66C1;F16B47;B66C1/02;F16B47/00
申请人地址: 518100 广东省深圳市龙华新区观澜街道上坑社区观盛五路5号泰豪科技厂区1号楼南、西三楼
主权项: 1.一种真空吸附装置,包括气路通道,其特征在于,所述真空吸附装置还包括层叠设置的第一基板及第二基板,所述第一基板远离所述第二基板的表面为第一表面,所述第二基板远离所述第一基板的表面为第二表面,所述气路通道位于所述第一表面与所述第二表面之间,所述第一基板与所述第二基板中的至少一者为透明基板,以使得所述气路通道可见。
所属类别: 实用新型
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