详情

原文传递一种日用陶瓷上釉设备

专利名称：	一种日用陶瓷上釉设备
摘要：	本发明提供一种日用陶瓷上釉设备，涉及陶瓷上釉技术领域。实现了均匀上釉的效果。该日用陶瓷上釉设备，包括本体装置、转动装置、抹匀装置和喷釉装置，转动装置、抹匀装置和喷釉装置均位于本体装置的内部，转动装置位于本体装置的底部，抹匀装置位于喷釉装置和转动装置之间，本体装置包括底板，底板的顶部固定安装有滑杆。该日用陶瓷上釉设备，通过电动伸缩杆调整抹匀装置的水平长度，使抹匀块与陶瓷粗坯接触，通过第二限位弹簧与第一限位弹簧的共同作用下使抹匀块能够随着陶瓷表面的起伏调整角度，从而达到了将陶瓷表面的釉层抹匀的效果，解决了陶瓷表面的釉层过厚，导致陶瓷在烧制时釉层开裂从而降低陶瓷价值的问题。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	房素珍
发明人：	黄建宏;戴春梅;黄慧宇;苏志强
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201811087339.4
公开号：	CN109016097A
代理机构：	北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427
代理人：	陈娟
分类号：	B28B11/04(2006.01)I;B01F5/00(2006.01)I;B;B28;B01;B28B;B01F;B28B11;B01F5;B28B11/04;B01F5/00
申请人地址：	514200 广东省梅州市高陂镇高陂机团中山路27号
主权项：	1.一种日用陶瓷上釉设备，包括本体装置(1)、转动装置(2)、抹匀装置(3)和喷釉装置(4)，其特征在于：所述转动装置(2)、抹匀装置(3)和喷釉装置(4)均位于本体装置(1)的内部，所述转动装置(2)位于本体装置(1)的底部，所述抹匀装置(3)位于喷釉装置(4)和转动装置(2)之间；所述本体装置(1)包括底板(101)，所述底板(101)的顶部固定安装有滑杆(103)，所述滑杆(103)的顶部固定安装有顶板(104)；所述转动装置(2)包括电机箱(201)，所述电机箱(201)的内部套设有伺服电机(202)，所述伺服电机(202)的输出端活动安装有转盘(203)，所述转盘(203)的顶部固定安装有挡盘(204)；所述抹匀装置(3)包括滑块(301)，所述滑块(301)的左侧固定安装有固定卡盒(302)，所述固定卡盒(302)的右端套设有卡杆(306)，所述卡杆(306)表面套设有复位弹簧(305)，卡杆(306)的左端设有卡盘(304)，所述卡盘(304)的正后方通过转轴(303)与固定卡盒(302)活动连接，所述转轴(303)的正后方固定安装有旋钮(307)，滑块(301)的左端固定安装有电动伸缩杆(308)，所述电动伸缩杆(308)的左端固定安装有第一支撑杆(309)，所述第一支撑杆(309)的左端活动安装有支撑板(313)，第一支撑杆(309)的顶部和底部均活动安装有第一拉杆(310)，所述第一拉杆(310)的左端固定安装有第一限位弹簧(311)，所述第一限位弹簧(311)的左端固定安装有第二拉杆(312)，所述第二拉杆(312)的左端与支撑板(313)活动连接，所述支撑板(313)的左端固定安装有第二支撑杆(315)，所述第二支撑杆(315)的左端活动安装有抹匀块(316)；所述喷釉装置(4)包括风机(4001)，所述风机(4001)的输出端连通有送风管(4002)，所述送风管(4002)远离风机(4001)的一端连通有喷气管(4004)，所述喷气管(4004)的表面套设有储釉箱(4003)，所述储釉箱(4003)的左侧连通有第一出釉管(4005)，所述第一出釉管(4005)远离储釉箱(4003)的一端连通有吸收气泡块(4012)，所述吸收气泡块(4012)的内部套设有大孔过滤网(4013)，吸收气泡块(4012)的顶部连通有第二出釉管(4006)，所述第二出釉管(4006)的底部连通有搅拌装置(4100)，所述搅拌装置(4100)的底部连通有出釉口(4007)，储釉箱(4003)的顶部套设有出气块(4008)，所述出气块(4008)的内部套设有透风板(4009)，所述透风板(4009)的顶部固定安装有阻力弹簧(4010)，所述阻力弹簧(4010)的顶部固定安装有阻力片(4011)；所述搅拌装置(4100)包括套管(4101)，所述套管(4101)的内部固定安装有支杆(4102)，所述支杆(4102)的顶部活动安装有搅拌轴(4104)，所述搅拌轴(4104)的顶部固定安装有搅拌扇叶(4103)。
所属类别：	发明专利