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原文传递一种基坑内局部帷幕止水方法

专利名称：	一种基坑内局部帷幕止水方法
摘要：	本发明提出了一种基坑内局部帷幕止水方法，解决了现有技术中在渗透性腔的图层施工时严重浪费地下水资源，且造成施工成本增加的问题；包括在需要施工的位置确定若干导向槽的位置，并进行导向槽的设置；根据设置的导向槽的位置进行一期槽段的成型；待S2步骤中一期槽段成型完成后，进行二期槽段成型；一期槽段与二期槽段之间注浆，并进行一期槽段和二期槽段顶部清理，通过一期槽段和二期槽段形成帷幕；设置疏干井和排水系统，配合一期槽段和二期槽段进行地下水抽取；本发明提出的基坑内局部帷幕止水方法在降低成本的同时避免了水资源的浪费。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	郑林
发明人：	郑林;李新明;戴连双;徐龙彪;翟琨
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201810525384.7
公开号：	CN108661064A
分类号：	E02D19/18(2006.01)I;E02D5/18(2006.01)I;E;E02;E02D;E02D19;E02D5;E02D19/18;E02D5/18
申请人地址：	100079 北京市丰台区东铁营顺八条9号
主权项：	1.一种基坑内局部帷幕止水方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、在需要施工的位置确定若干导向槽的位置，并进行导向槽的设置；S2、根据S1步骤中设置的导向槽的位置进行一期槽段的成型；S3、待S2步骤中一期槽段成型完成后，进行二期槽段成型；S4、一期槽段与二期槽段之间注浆，并进行一期槽段和二期槽段顶部清理，通过一期槽段和二期槽段形成帷幕；S5、设置疏干井和排水系统，配合一期槽段和二期槽段进行地下水抽取。
所属类别：	发明专利