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一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件
| 专利名称： | 一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件 |
| 摘要： | 本发明提供一种缓冲挡块及其制备方法和包装组件，属于显示技术领域，其可解决现有的缓冲包装不足以保护显示装置的问题。本发明的缓冲挡块中的填充物可以使得其具有良好的缓冲性能，其中的框架在受到外力时会发出不同强度的光，框架发出的光可用来激发填充物的自修复，从而促使框架恢复形变。显示装置在运输或储存的过程中使用该缓冲挡块，可避免因碰撞而受损，该缓冲挡块可为显示装置提供持续的保护。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 发明人： | 周俊丽;李强;付开鹏;赵亮亮;李平礼;张卿彦 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810826011.3 |
| 公开号： | CN109018691A |
| 代理机构： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
| 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 分类号： | B65D81/05(2006.01)I;B;B65;B65D;B65D81;B65D81/05 |
| 申请人地址： | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
| 主权项： | 1.一种缓冲挡块，其特征在于，包括多个矩阵排列的框架和设于所述框架内的填充物；其中，所述框架包括第一基材和分散于所述第一基材中的力致发光材料，所述第一基材受到外力后所述力致发光材料可发光；所述填充物包括第二基材和分散于所述第二基材中的光敏材料，在所述框架的光照下所述光敏材料引发第二基材聚合以使填充物进行自修复并使框架恢复形变。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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