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原文传递一种浸入式流体分析设备

专利名称：	一种浸入式流体分析设备
摘要：	本实用新型提供了一种浸入式流体分析设备，属于气体或者液体污染检测技术领域。它解决了现有的浸入式流体分析设备在水中镜片被污染难以清洗的问题。本装置包括第一腔体，第二腔体，测量池，位于测量池两侧的第一光学镜片和第二光学镜片，以及清扫装置，清扫装置包括电机，电机的动力输出端上传动连接有转轴，转轴上套接有摆臂，摆臂的端部在电机的驱动下可选择性的伸入到测量池内刮擦第一光学镜片和第二光学镜片。本实用新型具有结构简单，除污效果好的优点。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	浙江;33
申请人：	杭州春来科技有限公司
发明人：	许海龙;袁超;盛润坤;于志伟
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201721747757.2
公开号：	CN207717609U
分类号：	G01N21/17(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/17
申请人地址：	310053 浙江省杭州市滨江区浦沿街道（临）园区中路22号2幢905室
主权项：	1.一种浸入式流体分析设备，包括：第一腔体，所述第一腔体内置有光源，所述光源用于发出检测光；第二腔体，与所述第一腔体间隔设置，所述第二腔体内置有光电检测模块，所述光电检测模块位于检测光光路上并接收处理检测光；测量池，所述第一腔体和第二腔体之间的间隔构成所述测量池；第一光学镜片，位于检测光光路上，紧贴在第一腔体的一端，用于使第一腔体和测量池密封；第二光学镜片，位于检测光光路上，紧贴在第二腔体的一端，用于使第二腔体和测量池密封；清扫装置，用于去除吸附在第一光学镜片和第二光学镜片表面的杂质，所述清扫装置包括电机，所述电机的动力输出端上传动连接有转轴，所述转轴上套接有摆臂，所述摆臂的端部在电机的驱动下可选择性的伸入到测量池内刮擦第一光学镜片和第二光学镜片。
所属类别：	实用新型