专利名称: |
大坝上游基坑辅助防渗铺层结构 |
摘要: |
本发明公开了一种大坝上游基坑辅助防渗铺层结构,属于水利水电工程领域,提供一种可更有效地利用防渗帷幕以及坝基基岩“自愈能力”的大坝上游基坑辅助防渗铺层结构,包括大坝坝体和防渗帷幕,所述防渗帷幕设置在大坝坝体的下方,并且防渗帷幕的上端与大坝坝体的下端相连,在大坝坝体上游侧的基坑底部铺设有防渗铺层,并且所述防渗铺层与大坝坝体的上游侧坝面相接。本发明通过设置防渗铺层,可由防渗铺层内的“颗粒”物质对防渗帷幕区域以及坝基基岩内的岩体裂隙在渗水过程中进行充填,因此可为防渗帷幕以及坝基基岩的“自愈能力”提供有利条件,提高防渗系统的实际防渗效果,进而最终降低大坝整体的渗水流量。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
四川;51 |
申请人: |
中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 |
发明人: |
刘翔;黄彦昆;邵敬东;陈林;何光宇 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201810516497.0 |
公开号: |
CN108532543A |
代理机构: |
成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 |
代理人: |
陈仁平 |
分类号: |
E02B3/12(2006.01)I;E02B3/16(2006.01)I;E;E02;E02B;E02B3;E02B3/12;E02B3/16 |
申请人地址: |
610072 四川省成都市青羊区浣花北路1号 |
主权项: |
1.大坝上游基坑辅助防渗铺层结构,包括大坝坝体(1)和防渗帷幕(2),所述防渗帷幕(2)设置在大坝坝体(1)的下方,并且防渗帷幕(2)的上端与大坝坝体(1)的下端相连,其特征在于:在大坝坝体(1)上游侧的基坑底部铺设有防渗铺层,并且所述防渗铺层与大坝坝体(1)的上游侧坝面(3)相接。 |
所属类别: |
发明专利 |