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原文传递水处理系统

专利名称：	水处理系统
摘要：	本发明涉及一种水处理系统，包括电化学水处理单元(1)，电化学水处理单元包括限定了第一内部空间(3)的第一自支撑框架(2)；电化学反应器(4)在第一内部空间(3)中布置在电化学水处理单元(1)顶侧(6)中第一开口(10)的竖直下方；该系统还包括维护单元(11)，其包括限定了第二内部空间的第二自支撑框架(12)；维护单元(11)包括位于底侧(7)中的第二开口(13)；维护单元(11)布置在电化学水处理单元(1)上方，使得第一开口(10)和第二开口(13)对准；升降机(16)沿维护单元(11)顶侧(6)处的轨道结构(17)可移动地布置。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	芬兰;FI
申请人：	奥图泰(芬兰)公司
发明人：	A·萨洛卡内尔;M·卡胡;M·卢科宁;T·范德米尔;N·伊索麦基
专利状态：	有效
申请号：	CN201680085787.3
公开号：	CN109153546A
代理机构：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人：	林振波
分类号：	B66C11/12(2006.01)I;B;B66;B66C;B66C11
申请人地址：	芬兰埃斯波
主权项：	1.一种水处理系统，其特征在于：至少一个电化学水处理单元(1)，其包括第一自支撑框架(2)，第一自支撑框架具有立方体外形并限定了第一内部空间(3)，其中，至少一个电化学反应器(4)布置在第一内部空间(3)中，其中，所述至少一个电化学反应器(4)包括可释放地布置在所述至少一个电化学反应器(4)中的至少一个电极模块(5)，其中，所述至少一个电化学水处理单元(1)包括顶侧(6)、底侧(7)、一对端侧(8)和一对侧部(9)，其中，所述至少一个电化学水处理单元(1)在顶侧(6)中包括第一开口(10)，并且其中，所述至少一个电化学反应器(4)在所述至少一个电化学水处理单元(1)的第一内部空间(3)中布置在顶侧(6)中第一开口(10)的竖直下方；维护单元(11)，其包括第二自支撑框架(12)，第二自支撑框架具有立方体外形并限定了第二内部空间，其中，维护单元(11)包括顶侧(6)、底侧(7)、一对端侧(8)和一对侧部(9)，并且其中，维护单元(11)包括位于底侧(7)中的第二开口(13)；维护单元(11)配置成布置在所述至少一个电化学水处理单元(1)上方，使得所述至少一个电化学水处理单元(1)的顶侧(6)中的第一开口(10)和维护单元(11)的底侧(7)中的第二开口(13)对准并且维护单元(11)的一部分(14)不被所述至少一个电化学水处理单元(1)支撑；和第三开口(15)，在所述一部分(14)中位于维护单元(11)的底侧(7)中；和升降机(16)，在维护单元(11)的第二内部空间中沿着维护单元(11)顶侧(6)处的轨道结构(17)可移动地布置，使得升降机(16)可移动到维护单元(11)底侧(7)第二开口(13)上方的位置和维护单元(11)底侧(7)第三开口(15)上方的位置。
所属类别：	发明专利